真空熔煉爐有啥優(yōu)點(diǎn)　　真空熔煉爐集多功能于一體，是標(biāo)準(zhǔn)化微波高溫實(shí)驗(yàn)工作站。該設(shè)備具有***、節(jié)能、環(huán)保的特點(diǎn)，可廣泛用于各種氣氛下材料的煅燒、焙燒、燒結(jié)、高溫合成、灰化、熔融及熱處理，是實(shí)驗(yàn)和小型生產(chǎn)的理想高溫設(shè)備。 　　真空熔煉爐的優(yōu)點(diǎn)：　　應(yīng)用先進(jìn)的設(shè)計(jì)理念，采用加熱爐體和控制部件分體臺(tái)式結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，整機(jī)組合布局合理，體積小，結(jié)構(gòu)外形美觀大方。　　選用高質(zhì)量硅鉬棒加熱元件，加熱溫度可達(dá)1800℃，抗氧化，耐腐蝕，壽命長(zhǎng)。　　加熱爐室內(nèi)襯選用優(yōu)質(zhì)耐火保溫材料，確保加熱室電熱的***利用及溫度穩(wěn)定性。　　熱電偶實(shí)時(shí)測(cè)溫，PID恒溫調(diào)節(jié)，PLC智能控制，保障制樣過程控制，制片質(zhì)量?jī)?yōu)越。　　真空熔煉爐全觸摸屏顯示操作，人機(jī)界面友好，人工干預(yù)少，只需上樣，通過觸摸屏設(shè)定好熔樣曲線，熔樣過程一鍵自動(dòng)完成。　　設(shè)計(jì)有用戶可調(diào)自動(dòng)搖擺系統(tǒng)保障了熔片的均勻性和熔片質(zhì)量，全自動(dòng)倒模及抖動(dòng)輔助，適應(yīng)不同材質(zhì)樣品的制樣需要。　　儀器設(shè)計(jì)有多重保護(hù)（超溫、搖擺運(yùn)動(dòng)限位保護(hù)等），使儀器更安全穩(wěn)定可靠運(yùn)行。　　倒樣澆鑄在爐內(nèi)完成，對(duì)人體熱輻射少，設(shè)計(jì)有強(qiáng)制風(fēng)冷系統(tǒng)加快熔片冷卻，提***率。　　整機(jī)升溫快、節(jié)能、運(yùn)行穩(wěn)定，工作溫度可達(dá)1800℃，對(duì)不同樣品材質(zhì)有較好的溫度適用性，制得的樣片均勻，較好滿足XRF分析。　　真空熔煉爐單次可同時(shí)熔融四個(gè)樣片（用戶還可定制6個(gè)樣位機(jī)型），整機(jī)性價(jià)比高。

　　氣相沉積爐的特點(diǎn)是什么 　　氣相沉積爐可用于以碳?xì)錃怏w為碳源的復(fù)合材料的化學(xué)氣相沉積。其中CVD沉積爐是指高溫下的氣相反應(yīng)，例如，金屬鹵化物、有機(jī)金屬、碳?xì)浠衔锏鹊臒岱纸猓瑲溥€原或使它的混合氣體在高溫下發(fā)生化學(xué)反應(yīng)以析出金屬、氧化物、碳化物等無機(jī)材料的方法。這種技術(shù)開始是作為涂層的手段而開發(fā)的，但目前，不只應(yīng)用于耐熱物質(zhì)的涂層，而且應(yīng)用于高純度金屬的精制、粉末合成、半導(dǎo)體薄膜等，是一個(gè)頗具特征的技術(shù)領(lǐng)域。 　　設(shè)備特點(diǎn)在于：(1)在低溫下合成高熔點(diǎn)物質(zhì);(2)析出物質(zhì)的形態(tài)在單晶、多晶、晶須、粉末、薄膜等多種;(3)不僅可以在基片上進(jìn)行涂層，而且可以在粉體表面涂層，特別是在低溫下可以合成高熔點(diǎn)物質(zhì)，在節(jié)能方面做出了貢獻(xiàn)，作為一種新技術(shù)是大有前途的。 　　下面小編詳細(xì)列舉幾條爐子的特點(diǎn)，以便大家能更好的了解爐子的性能。 　　氣相沉積爐工作區(qū)尺寸可達(dá)2.5m×2m×4.5m，能滿足超大型工件化學(xué)氣相沉積處理需求；并且，采用多溫區(qū)獨(dú)立控溫，溫度均勻性好； 　　與此同時(shí)采用特殊結(jié)構(gòu)沉積室，密封效果好，抗污染能力強(qiáng)； 　　氣相沉積爐采用多通道沉積氣路，流場(chǎng)均勻，無沉積死角，沉積效果好； 　　氣相沉積爐對(duì)炭沉積過程中產(chǎn)生的焦油、固體粉塵、有機(jī)氣體等能進(jìn)行有效處理。